高比表氫氧化鈣設(shè)備與普通氫氧化鈣設(shè)備有什么不同？

  高比表面積氫氧化鈣設(shè)備該設(shè)備可用于生產(chǎn)高比表面積的氫氧化鈣。

  高比表面積氫氧化鈣是一種具有較大比表面積的氫氧化鈣粉，其比表面積較一般氫氧化鈣粉更大，因而在一些特定的應(yīng)用領(lǐng)域顯示出了良好的應(yīng)用前景。

  高比表面積氫氧化鈣裝置與一般的氫氧化鈣裝置在原材料的選擇，生產(chǎn)工藝和設(shè)備的結(jié)構(gòu)上都存在著較大的差異。生產(chǎn)高比表面積的氫氧化鈣，不僅需要用到細(xì)粉，而且通常還需要細(xì)粉的破碎、分級(jí)過程。同時(shí)，對(duì)該裝置的結(jié)構(gòu)進(jìn)行了改造，使之能夠滿足高比表面積的氫氧化鈣磨粉的需要。因此，高比表的氫氧化鈣機(jī)相對(duì)于一般的氫氧化鈣機(jī)也更加的專門化和精細(xì)化。